Tarča iz kroma visoke čistosti

Opis tarče za razprševanje kroma visoke čistosti

Krom je jekleno siva, sijoča, trda in krhka prehodna kovina. Chromium Sputter Target visoke čistosti se na splošno proizvaja s postopki vakuumskega taljenja ali vročega izostatičnega stiskanja. Ima značilnosti visokega tališča, odpornosti proti koroziji, odpornosti na visoke temperature, odpornosti proti udarcem, odpornosti proti obrabi, visoke trdnosti in trdote ter se lahko nabrizga z visoko čistostjo in oprijemom. Visokokakovostna folija z visokimi lastnostmi, dobro enakomernostjo, odlično odpornostjo proti koroziji, odpornostjo proti obrabi in vzdržljivostjo. V industriji vakuumske obdelave lahko High Purity Chromium Sputter Target proizvede razmeroma stabilen žarek kromovih ionov, kar omogoča njegovo uporabo za izdelavo substratov ali površinskih premazov za zaščito substratov ali za izdelavo nekaterih industrij, ki še posebej zahtevajo visoko odpornost proti oksidaciji. Komponenta. Chromium Sputter Target visoke čistosti se običajno uporablja v postopkih obdelave PVD in CVD za izdelavo dekorativnih premazov, premazov, odpornih proti koroziji, in odsevnih premazov. S prilagoditvijo procesnih parametrov lahko nanese tudi kromirane prevleke različnih barv.

Specifikacije tarče za razprševanje kroma visoke čistosti:

Fotografije tarč za razprševanje kroma visoke čistosti:

Priljubljena oznake: tarča za razprševanje kroma visoke čistosti, dobavitelji, proizvajalci, tovarna, po meri, veleprodaja, cena, ponudba, naprodaj