Del vsadka iz težke zlitine volframa

Opis dela vsadka iz težke zlitine volframa

Tehnologija polprevodniške ionske implantacije je neke vrste visoka tehnologija površinske modifikacije materiala, ki se pogosto uporablja pri dopiranju polprevodniških materialov in površinski modifikaciji kovin, keramike, polimerov itd., in je postala nepogrešljivo sredstvo sodobne velike obseg proizvodnje integriranih vezij. Del vsadka iz težke zlitine volframa je na splošno izdelan iz zlitine volframa po sintranju, kovanju, valjanju in strojni obdelavi. Ima prednosti visoke gostote, dobrih mehanskih lastnosti, močne odpornosti proti koroziji, visoke natezne trdnosti, močne odpornosti proti toplotnemu udaru, dobre odpornosti proti obrabi, nestrupenosti, zaščite okolja in dolge življenjske dobe. Del vsadka iz težke zlitine volframa lahko ohrani smer izmeta ionskega žarka, poveča vzdržljivost komponente in uresniči namen spreminjanja prevodnosti polprevodniških naprav in strukture tranzistorja. Vsadni del iz težke zlitine volframa se lahko uporablja za izdelavo različnih polprevodniških naprav, kot so tranzistorji, integrirana vezja, mikroelektronske naprave, sončne celice itd.

Specifikacije delov vsadka iz težke zlitine volframa:

Slike delov vsadka iz težke zlitine volframa:

Priljubljena oznake: del vsadka iz volframove težke zlitine, dobavitelji, proizvajalci, tovarna, po meri, veleprodaja, cena, ponudba, naprodaj